江（jiāng）蘇某半導體汙水（shuǐ）處理廠

工藝：A²0（A方O工藝）
設計水量：20000mm³/d（20000立（lì）方米每（měi）天）
進水總氮：200-300mg/L （200-300毫克每升）
出水總氮：<50mg/L
使用碳源名稱：錦泰環淨（jìng）液體葡萄（táo）糖
使用效果：總氮達標，提高了（le）汙水的可生化性，為反硝（xiāo）化脫氮提供了能量（liàng）。